Target sputtering keramik TiO2 titanium dioksida
Target sputtering keramik, target sputtering titanium oksida, target sputtering TiO2
Bulat: OD25.4mm, OD50mm, OD50.8mm, OD60mm, OD76.2mm, OD80mm, OD101.6mm, OD100mm atau sesuai pesanan
Plat: ketebalan 3mm, 4mm, 5mm, 6mm, 6.35mm juga dapat mengikat backplane tembaga
Kepadatan: Lebih besar atau sama dengan 4,15 g/cm3
Resistivitas:<10mΩ.cm
perkenalan produk
Target sputtering keramik titanium dioksida tio2 merupakan material khusus yang digunakan dalam proses pengendapan lapisan tipis, yang merupakan metode umum untuk melapisi berbagai permukaan dengan lapisan material tipis. Proses ini banyak digunakan dalam industri elektronik untuk memproduksi perangkat mikroelektronik, layar panel datar, sel surya, dan aplikasi lapisan tipis lainnya.
Target sputtering adalah material yang dibombardir dengan ion berenergi tinggi untuk menghasilkan aliran partikel yang kemudian diendapkan ke substrat, sehingga menghasilkan pembentukan lapisan tipis. Properti target sputtering sangat penting bagi kualitas dan karakteristik lapisan yang dihasilkan.
Target sputtering keramik titanium dioksida 99,99% tio2 merupakan material dengan kemurnian tinggi yang terdiri dari 99,99% titanium dioksida. Tingkat kemurnian tinggi ini penting untuk memastikan bahwa film yang diendapkan memiliki komposisi yang konsisten, yang penting untuk sifat film yang diinginkan.
Target sputtering titanium dioksida biasanya dibuat melalui proses yang disebut pengepresan panas, yang melibatkan pemanasan dan pemadatan bubuk titanium dioksida menjadi balok padat. Proses ini memastikan bahwa material memiliki kepadatan yang seragam dan permukaan yang halus, yang penting untuk mencapai pengendapan lapisan tipis yang konsisten dan berkualitas tinggi.
Spesifikasi
Sasaran TiO2 99,99%
Bulat: OD25.4mm, OD50mm, OD50.8mm, OD60mm, OD76.2mm, OD80mm, OD101.6mm, OD100mm atau sesuai pesanan
Plat: ketebalan 3mm, 4mm, 5mm, 6mm, 6.35mm juga dapat mengikat backplane tembaga
| Kontrol kualitas bahan | |
| Analisis komposisi bahan baku: | Melalui deteksi dan analisis peralatan ICP, kandungan elemen pengotor untuk memastikan kemurnian memenuhi standar; melalui XRD untuk memeriksa apakah komponen bubuk sama |
| Deteksi ukuran penampilan: | Gunakan mikrometer dan jangka presisi untuk mengukur dimensi produk guna memastikan kesesuaian dengan gambar; ukur permukaan akhir dan kebersihan produk dengan pengukur kebersihan permukaan. |
Deteksi cacat: | Deteksi target belakang melalui peralatan deteksi cacat untuk memastikan bahwa lapisan pengikat seragam dan tingkat pengikatan tinggi |
Kasus aplikasi
Target sputtering keramik titanium dioksida (TiO2) memiliki berbagai macam aplikasi dalam industri elektronik, energi, dan biomedis. Berikut ini adalah beberapa contoh penggunaan target sputtering titanium dioksida:
1. Sel Surya: Banyak digunakan dalam produksi sel surya. Lapisan tipis TiO2 yang diendapkan pada substrat berfungsi sebagai komponen penting dalam sel surya peka zat warna (DSSC) dan sel surya perovskit (PSC). Lapisan tipis ini membantu meningkatkan penyerapan cahaya dan meningkatkan efisiensi sel surya.
2. Optik: TiO2 juga digunakan dalam produksi pelapis optik untuk lensa, cermin, dan filter. Lapisan tipis TiO2 diendapkan pada permukaan elemen optik untuk meningkatkan kinerjanya dan mengurangi silau.
3. Mikroelektronika: Digunakan dalam produksi perangkat mikroelektronika seperti transistor, kapasitor, dan sirkuit terpadu. Lapisan tipis TiO2 diendapkan ke substrat untuk meningkatkan kinerja dan daya tahan perangkat ini.
4. Aplikasi Biomedis: Digunakan dalam aplikasi biomedis seperti pengiriman obat dan biosensing. Lapisan tipis TiO2 diendapkan ke substrat untuk menciptakan wahana pengiriman obat dan biosensor yang dapat digunakan untuk mendiagnosis dan mengobati berbagai penyakit.
5. Penyimpanan Energi: Juga digunakan dalam aplikasi penyimpanan energi, seperti baterai lithium-ion. Lapisan tipis TiO2 diendapkan pada permukaan elektroda untuk meningkatkan kinerja dan masa pakai baterai.
Dalam semua aplikasi ini, kemurnian tinggi dan konsistensi target sputtering keramik titanium dioksida sangat penting untuk mencapai sifat yang diinginkan dari lapisan tipis. Kualitas target sputtering memainkan peran penting dalam kualitas dan kinerja produk akhir.
Tag populer: keramik tio2, keramik titanium dioksida, target sputtering titanium dioksida
Anda Mungkin Juga Menyukai
Kirim permintaan
